氧化铝陶瓷因具有高硬度、高耐磨性、良好的绝缘性和化学稳定性等优异特性，在电子、机械、化工、医疗等众多领域都有着广泛的应用。然而，氧化铝陶瓷在制造和使用过程中，其表面往往会受到各种污染，这些污染物会严重影响其性能，因此对氧化铝陶瓷表面进行清洗处理是至关重要的。

物理清洗法

    机械擦拭：使用柔软的布、毛刷等工具，蘸取适量的清洁剂或溶剂，轻轻擦拭氧化铝陶瓷表面，可去除表面的灰尘、污渍和松散的杂质。对于一些顽固污渍，可选用具有一定摩擦力但不会刮伤陶瓷表面的工具，如尼龙刷等。例如，在实验室中，若氧化铝陶瓷表面只是有一些轻微的灰尘和指纹印，可用干净的无纺布蘸取少量乙醇轻轻擦拭即可。

    高压水冲洗：利用高压水枪产生的高速水流冲击氧化铝陶瓷表面，能有效去除表面的大块污垢、油污和粘附性不强的杂质。这种方法适用于表面污染较为严重且陶瓷制品能够承受一定压力的情况，如一些大型的氧化铝陶瓷管道或块状陶瓷的外表面清洗。但要注意控制水压，避免对陶瓷表面造成损伤。

    超声波清洗：将氧化铝陶瓷制品放入装有清洗液的超声波清洗槽中，通过超声波发生器产生的高频振动，在清洗液中形成无数微小气泡，这些气泡在闭合时会产生强烈的冲击波，将陶瓷表面的污垢、油脂、微粒等污染物分解、乳化并剥离下来 ，从而达到清洁的目的。超声波清洗对于形状复杂、有小孔或缝隙的氧化铝陶瓷制品清洗效果尤为显著，能深入到常规清洗方法难以到达的部位。例如，对于有精细内部结构的氧化铝陶瓷电子元件，超声波清洗可以很好地去除其内部的微小杂质。

化学清洗法

    碱洗：常用的碱性溶液有氢氧化钠、碳酸钠、氨水等。碱洗可以去除氧化铝陶瓷表面的油脂、有机物和一些金属氧化物等污染物。例如，将氧化铝陶瓷浸泡在适当浓度的氢氧化钠溶液中一段时间，然后用清水冲洗干净，可以有效去除表面的油污。但碱洗时要注意控制溶液的浓度和浸泡时间，避免对陶瓷表面造成过度腐蚀2。

    酸洗：常用的酸洗液有硝酸、盐酸、氢氟酸等。酸洗能够去除氧化铝陶瓷表面的铁锈、水垢、氧化皮等杂质，以及一些碱性溶液难以去除的污渍。不过，由于氧化铝陶瓷本身具有一定的耐酸性，但不同晶型和纯度的氧化铝陶瓷耐酸性有所差异，所以在酸洗时需要严格控制酸的浓度、温度和浸泡时间，防止对陶瓷表面造成损害。比如，对于含有少量金属杂质的氧化铝陶瓷，可以用稀硝酸溶液进行浸泡清洗，去除表面的金属氧化物2。

    有机溶剂清洗：利用有机溶剂如乙醇、丙酮、甲苯等对油脂、有机物等具有良好溶解性的特点，来清洗氧化铝陶瓷表面的油污、胶渍等污染物。有机溶剂清洗后挥发速度快，不会在陶瓷表面留下残留，但有机溶剂大多易燃、有毒，使用时要注意安全，需在通风良好的环境中进行操作。例如，若氧化铝陶瓷表面有胶水残留，可用丙酮进行擦拭清洗。

其他特殊清洗方法

    氢氧焰烧灼：通过氢氧焰产生的高温对氧化铝陶瓷表面进行烧灼，可使表面的有机物瞬间燃烧分解，同时还能对陶瓷表面进行一定程度的活化，有利于后续的处理。但这种方法需要专业的设备和操作技能，且烧灼温度和时间控制不当容易导致陶瓷表面过热受损或性能改变，一般用于对表面清洁度和活性要求极高的特殊应用场景，如某些高端电子元件制造中的氧化铝陶瓷基片清洗1。

    等离子清洗：利用等离子体中的活性粒子与氧化铝陶瓷表面的污染物发生物理和化学反应，将污染物去除并改变陶瓷表面的化学状态，提高表面的亲水性或粘附性等性能。等离子清洗具有清洗效果好、对陶瓷表面损伤小、无污染等优点，常用于对表面质量要求较高的氧化铝陶瓷制品，如光学镜片、半导体器件等的清洗 。